腐蝕性ガスの雰囲気内で制御盤が設置されている場合、内部の電気部品が腐食し、頻繁に交換する必要がありますが、CFUシリーズを使えば、交換周期の長期化が可能です。

• 制御盤内へ設置し、スタンドアロンで腐食性ガスを除去

  盤内機器の長寿命化に貢献します。

• 特殊な化学吸着剤で腐食性ガス・臭気を除去

  化学吸着剤方式は、他方式(光触媒等)と比較し圧倒的な除去速度を誇ります。

• 一気通貫でご提案

  腐食環境の調査から除去ソリューションまで一気通貫でご提案します。

• 対応ガス

  硫化水素ガス、メチルメルカプタン、亜硫酸ガス　など

■超小型・軽量

約0.8kgなので、制御盤内にマグネットで取付可能です。
※推奨盤内サイズ0.5m³

■化学吸着剤による気相状態での乾式除去（酸化還元、中和反応、物理吸着）

代表例：吸着剤 Purafil Selectでの硫化水素除去反応

■性能比較試験

化学吸着×光触媒方式
※試験開始濃度：3.4ppm　試験終了濃度：0.0ppm　テスト容積：1m2

■用途により様々なラインナップ

• お客様の使用環境に応じてカスタマイズ可能です。

  

■利用シーン